- Dina fördelar som Premium-medlem
- 10% rabatt på artiklar
- Prioriterad expressfrakt
- Fri frakt från 250,00 kr
- Hjälp & Kontakt
Empfehlungen
Filter
* Innehåller omdömen om internationella parfumdreams-butiker. Omdömena är inte verifierade avseende äkthet
Produktinformation
beskrivning
Deep Cleansing Clay Masque, Botanical Kinetics
Linje
Fukt
Produktserie
Skincare
egenskap
Naturkosmetika
Deep Cleansing Clay Masque från Aveda
Ansiktshuden är mycket känslig och behöver, förutom regelbunden rengöring, framför allt vård och rikligt med fukt för att se frisk, vital och ungdomlig ut under lång tid. Deep Cleansing Clay Masque från Botanical Kinetics-serien från Aveda hjälper dig att rengöra huden grundligt och samtidigt återfukta den intensivt. Den högkvalitativa produkten är lika lämplig för alla hudtyper och arbetar främst med naturens kraft genom att använda växtbaserade ingredienser för att rengöra och återfukta huden. Gör något bra för din hud regelbundet med denna intensivvårdande mask.
Virkar grundligt och djupt in i porerna
Deep Cleansing Clay Masque är en vårdande mask med djupverkande effekt. Produkten från Botanical Kinetics-serien rengör din ansiktshud på djupet samtidigt som den absorberar överflödigt talg, återfuktar och tonar huden och ger dig en välvårdad hy. Använd masken från Aveda regelbundet för att fräscha upp din hy. Den bör användas ungefär en gång i veckan efter rengöring av huden. Applicera masken på ansikte och hals, undvik ögonområdet. Efter fem minuter tar du bort masken med en mjuk, fuktig trasa och klappar sedan huden torr. Du hittar fler produkter från Botanical Kinetics i butiken.Innehåller
Water\Aqua\Eau, Kaolin, Glycerin, Bentonite, Glyceryl Stearate, Betaine, Methyl Glucose Sesquistearate, Sucrose, Caprylic/Capric Triglyceride, Silybum Marianum (Lady'S Thistle) Extract, Quillaja Saponaria Extract, Caffeine, Cetearyl Alcohol, Cetyl Alcohol, Stearic Acid, Magnesium Aluminum Silicate, Caprylyl Glycol, Glyceryl Caprylate, Polysorbate 80, Sodium Gluconate, Fragrance (Parfum), Phenoxyethanol, Mica, Titanium Dioxide (Ci 77891), Iron Oxides (Ci 77491, Ci 77492, Ci 77499)